簡述西門子超濾膜相關參數性能 二維碼
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發表時間:2018-03-07 10:57 概 述 在膜過濾和膜制造方面,Memcor憑借其無與倫比的研發經驗,持續地開發出技術領先的膜過濾系統,行銷世界各地。 MEMCOR? XP低壓膜過濾裝置是一種預先組裝好、并經過工廠測試的只需就地安裝的設備。MEMCOR? CP低壓膜過濾系統則是一種可根據明確的項目要求而進行工程設計、靈活組裝的系統。這些裝置不僅能提供高質、高效、可靠地給水過濾,而且占地面積小、運行經濟。 MEMCOR? XP或CP低壓膜過濾系統典型的部件包括: ??中空纖維膜過濾元件:典型的是L20V型PVDF均相不對稱超濾膜 – 其他類型的膜也能提供; ??膜外殼:是鑄模成型的尼龍組件,組裝起來后就成為膜過濾元件的壓力外殼; ??膜堆:是由一排或多排相互聯結的膜殼組裝而成,帶有給水、產品水和空氣的 工藝接口; ??復合端蓋:是鑄模成型的尼龍組件,可允許成排的膜殼輕松地接入。復合端蓋 在大型膜堆上非常典型(見后圖1所示)。 ??給水泵:是從水源抽取給水,送入膜堆的動力。但在更大型的裝置上或給水帶 壓時,則可能不需要給水泵; ??閥門、儀器儀表和控制系統; ??框架或滑架,用于安裝核心設備。 每一個中空纖維膜過濾組件內含有數千根膜纖維,纖維外環繞塑料篩網加以保 護,上下兩端用聚亞胺脂封裝。封頭允許產品水通過所有膜纖維的中空內腔,到達膜堆上下的復合端蓋,引導出來。帶進氣口的復合端蓋裝配在每排膜殼的底部,可將低壓工藝空氣送入每支過濾元件的底部,反洗時可用于插洗膜纖維絲的外表面。每支過濾膜元件都是可操作的過濾單元,可輕松地從裝置上拆卸下來,便于維修或更換。
第一部分 典型的系統組成 MEMCOR? XP或CP低壓膜過濾裝置是膜系統所必備的核心設備。膜裝置一旦安裝就位,其外部設備就可通過適當的端口與之相聯接。 圖2所示是一個典型的低壓膜過濾系統的組成結構圖。系統的每一部分將在后續章節加以說明。
1-1 進水系統 原水進入膜裝置前必須通過篩分去除大的固體。膜裝置的進水系統通常包括諸如投加絮凝劑、pH調節等原水預處理措施。 典型的做法是,將原水先貯存在給水箱中,而后用泵、或者通過重力作用,將原水送入膜裝置。給水箱的液位可用液位開關或者液位變送器進行監控。 典型的進水水質要求包括給水溫度大于 0oC( 不結冰)小于40oC , 濁度小于150NTU(盡管短期來講可能能處理更高的濁度),pH 5.5-8.5之間。其他的有關膜或應用的限制要求也可能適用。進一步的細節請咨詢Memcor公司。 1-2 產品水系統 產品水的流量可以通過給水泵的變頻驅動、或者通過產水管道上的調節閥或柔性流量孔板來加以控制。 MEMCOR?XP或CP低壓膜過濾裝置的產品水通常送到就地的產品水箱或者直接送到給水管道。膜系統可行的最高產水壓力典型地不能超過50kPa(5米水頭)。 反洗時,產品水在短時間內反向透過膜絲,將固體從膜組件內沖洗出去。但是,為實現反洗目的,MEMCOR?XP或CP裝置在設計時只采用膜裝置內產水側的存水,而不需要提供外部貯存的產品水。 1-3 壓縮空氣系統 氣動閥的操作、膜堆在不同工藝階段的排空或加壓都需要使用干凈、干燥的壓縮空氣。進入膜組件的工藝空氣必須無油。 Memcor推薦使用優質壓縮空氣過濾器,典型的是彈筒式過濾/冷凝器。在大型系統上,推薦使用冷凍空氣干燥器。空氣潤滑器不一定需要。空氣接收貯罐應配備自動排污閥,以便去除凝結水。 在小型MEMCOR?XP低壓膜裝置(典型的是不超過十二支組件的系統)上,也可能用壓縮空氣源為反洗曝氣工藝供氣。超過十二支膜的系統,采用單獨的風機作為曝氣來源,可能更經濟。 1-4 風機系統 反洗工藝中,通過膜堆底部的連接系統將低壓空氣送入膜堆,并分配到所有膜殼內,使空氣流過每個膜組件的纖維束。這就是反洗工藝的曝氣步驟。 風機系統不僅要求能夠達到所需的空氣流量,而且輸送壓力要達到能將水從空氣復合端頭中置換出來,以便空氣能順利進入膜組件底部(典型的風機出口壓力要求是20-25kPa)。輸送管線的壓力損失也應考慮在內,所以風機放置應盡可能接近膜過濾裝置。 典型地,用于反洗目的的空氣都是由一臺或多臺風機提供的(典型的是回轉式無油容積鼓風機)。通常當安裝了多臺風機時,每臺風機應該做到能為單次反洗提供足夠的空氣流量。而且,每次反洗后,下次使用下一臺風機,如此輪流使用。 風機系統應該配備必要的空氣入口過濾器及出口安全閥。有的系統甚至采用變速驅動裝置以便調節風機流量,減少運行成本。為了防止憋壓,風機出口也可能需要配備排氣閥。 1-5 反洗廢液處理系統 當反洗程序的過濾液反洗和曝氣步驟執行完后,從膜組件內松動下來的固體需要從裝置的進水側排放掉。這種“高固體”的反洗廢水可通過重力作用或者低壓空氣的輔助作用排放到裝置近旁的低位水槽中。排放工序應該越短越好,因為排放時間越長,系統離線停機、不能生產制水的時間就越長。根據就地的要求,反洗廢水通常在排放前或回收前需要進行進一步處理。 1-6 清洗系統 在使用清洗設備之前,操作人員應該配備必要的安全設備,并得到相應的使用培訓。具體包括諸如防護服、圍裙、手套、面罩等人身防護設備。化學品處理區域還應包括洗眼器、安全淋浴器等設施。所有化學品的材料安全數據表應放在就近位置,方便查閱。大多數的MEMCOR?XP和CP低壓膜過濾系統都配備了單獨的清洗箱,當系統進入清洗環節時,用于貯存循環的清洗溶液。 在小型系統上,清洗過程中,清洗用的濃藥品可能通過操作人員手動計量并加入清洗箱中。 在大型系統上,清洗系統典型地包括藥品貯罐、每種藥品的輸送泵,以實現濃藥液的自動投加。貯罐容積及泵的規格取決于每種藥品輸送量的多少。每臺泵應該具有標定方式或流量測量儀器,以確保準確地控制清洗液濃度。如果清洗液濃度太低,清洗可能沒有效果;如果清洗液濃度太高,既造成藥品浪費,又可能損壞設備。 清洗系統也可能包括專門的藥品卸載區域,也可能是專門為運輸設備到藥品貯罐設立的藥品輸送區。 清洗過程中,藥品輸送泵從貯罐抽取需要的藥品量,注入膜裝置的水中,并由給 水泵打循環。 有的系統在產品水管道上配備了相應的儀器,可以監測循環清洗液的濃度,檢查藥品濃度是否在所需的范圍內。 多數的MEMCOR?XP和CP低壓膜過濾裝置所用的清洗方法一般只使用清洗液一次。這可以防止重復使用清洗液引起的污染物在清洗液中的累積。 1-7 清洗廢液處理系統 MEMCOR?XP或CP低壓膜過濾系統結束清洗后,典型的做法是把用過的清洗液從裝置及清洗箱中排放到廢液處理系統。很多情況下,清洗廢液處理系統就是收集反洗廢水的同一個系統。有的系統則要求單獨的清洗廢液處理系統。
典型的清洗廢液處理系統是在進一步處理或排放前中和清洗廢液。因此,可能有必要增加化學藥品貯罐和輸送設備。為了控制和監測中和工藝,通常也需要配備適當的儀器。 1-8 熱水系統 人們發現清洗液加熱后可以提高MEMCOR?XP和CP低壓膜系統的清洗效率。當清洗液溫度可能遠低于20oC時,推薦采用熱水系統。熱水系統通常是一個帶有電加熱的熱水箱,既可貯存、又可加熱清水,用于膜過濾裝置的清洗工藝。清洗箱和管道的隔熱保溫層可以減少這些系統的能量消耗。 其他加熱方法包括清洗箱內的浸沒式電加熱器,或者清洗液循環時對隔熱循環管道采用在線跟蹤加熱。 熱水系統使用的水,可以是膜系統本身的產品水、自來水,或者如果可能的話,使用反滲透的產品水。 熱水系統應該配備適當的儀器、儀表及控制系統,調節加熱,防止高溫水與膜過濾組件接觸(與膜組件接觸的水溫決不能超過40oC)。 1-9 儀器儀表及控制系統 標準的MEMCOR?XP和CP低壓膜過濾裝置配有壓力表,典型地還包括諸如流量、液位、溫度傳感器等其他儀表,用于監控膜裝置的運行。 可編程控制器(PLC)可以控制膜過濾系統的所有功能,并能為典型的外部系統提供有限的控制。控制盤和/或操作員界面為操作人員提供了監測、控制系統的平臺。 膜過濾裝置的PLC和操作員界面(如果配備了)通常安裝了標準的操作軟件,并在工廠測試時為裝置設定好了配置。設備一旦安裝就位,可以對系統的配置設定進行進一步的調試。 標準的系統軟件通過對工藝進行檢查確認,可以確保膜過濾裝置運行在推薦的指針范圍內。如果裝置運行超出正常范圍,典型地會產生報警;如果裝置運行嚴重超出極限,則會產生停機報警,將系統停機,減少損壞系統膜組件的風險。詳細的故障排除指南可幫助操作員準確查明系統問題所在。 Memcor還開發了專門的MEMLOG?數據記錄器,可以配備在其生產的任何一臺膜過濾裝置上。 MEMLOG? 數據記錄器可以按照標準格式, 用Memcor 的 MEMANLY?軟件,對就地或遠程設備,快速而輕松地采集運行數據。MEMANLY?可以對運行數據進行分析處理,并顯示出來,以便評估裝置的狀況和運行性能,進一步確認系統內機械組件的運行情況。 1-10 膜組件維護設備 MEMCOR?XP和CP低壓膜過濾裝置配備了內置的完整性檢測程序。該程序可以手動啟動,也可以自動啟動。如果系統偵測到完整性發生了損失,那么單獨的膜殼可以一次一個從膜堆里卸下來,并允許膜殼內部的中空纖維膜組件拆下來進一步檢查和測試。 Memcor能夠提供膜組件維護所必要的標準工具,包括氣動膜組件拆除工具(典型地用于大型系統)、專用扳手及其他便于從膜堆拆卸組件的設備。 從膜堆拆下來的過濾組件也可以一次一支在Memcor提供的測試容器上進行完整 性測試。如果必要的話,測試容器可以允許膜組件再次使用之前進行修補。 有關推薦的膜組件維護設備(諸如標準工具、測試容器、釘補套裝等)的詳情, 請咨詢Memcor。 第二部分 MEMCOR? XP和CP膜系統的運行工藝介紹 MEMCOR?XP或CP低壓膜過濾裝置自動運行,生產高質量的產品水;同時濃水除去固體后可以進一步回用或排放。裝置的主要運行狀態或程序描述如下。 2-1 停機 停機是裝置的正常失電狀態,也是裝置停運、報警清除后進入的狀態。在停機狀態時,裝置可隨時啟動。 2-2 啟動 當裝置從停機開始啟動時,給水應先準備就緒;而后啟動給水泵,將篩網預處理的給水送入膜堆的底部。一旦膜堆的給水側滿水,膜堆頂部的給水出口閥將關閉。膜堆升壓,進一步促使膜組件的產品水側和產品水管道滿水。在大型MEMCOR?XP和CP裝置上,可用產水側復合端蓋高液位開關監測膜堆產水側液位。 2-3 過濾 一旦啟動程序完成,裝置滿水,給水泵會繼續運行,促使水穿過中空纖維膜絲,并按照工作所需的流量產水。產水流速通常用裝置上的流量計測量。 在大型裝置上,系統過濾狀況可以通過控制系統加以監測。控制系統用儀器儀表 計算透膜壓差(TMP,達到設定流量時,所需的透過膜層的壓力差)和流動阻力。基于這些計算,系統程序會自動觸發反洗和清洗請求。 在小型裝置上,儀器儀表和控制可以加以簡化。反洗和清洗程序通常基于時間控制或者操作員的監控。 2-4 備用 如果給水沒有了,或者產水箱液位高,裝置將可設置自動進入備用狀態。在備用狀態,裝置等待提供給水或產水箱液位降低。一旦條件具備,備用裝置通常可以直接返回過濾狀態,而無需運行啟動程序。 2-5 反洗 當給水通過膜的皮層時,會在膜面上累積形成濾餅,從而增加水流阻力。 Memcor低壓膜裝置高效運行的關鍵是其專利反洗工藝。該工藝采用低壓空氣曝氣插洗,并輕柔攪動中空纖維膜絲,同時結合短時的產水反洗,將截留的固體從膜纖維束上去除。液體反洗的廢水接下來排放到反洗廢水處理系統。裝置的進水側和產水側接下來按照與啟動類似的方法重新滿水,裝置重新轉入運行制水。 在大型MEMCOR?XP和CP裝置上,在底部復合端蓋上可以配備低液位開關,用 于監測膜堆進水側的液位。這個方法可用于確認反洗步驟的排空是否進行徹底,及滿水是否正確執行。 控制系統典型地每過20-60分鐘(時間長短取決于進水水質)會啟動自動反洗程序。反洗過程需要大約兩分半鐘進行完成。 2-6 維護性清洗 (MW) MEMCOR?XP或CP裝置的反洗工藝能非常高效地保持膜組件的清潔。但是,取決于原水質量,少量無機和有機殘余污染物會在膜面上堆積起來,隨時間推移逐漸增加水流阻力。 通過Memcor短時間的維護性清洗工藝(也叫MW工藝)可以有效減小污染物在膜面上堆積的速率。在該工藝中,低濃度的清洗溶液和膜組件進行短時間的接觸。這樣可以減少水流的透膜阻力,降低運行能耗,大大延長化學清洗的周期。 維護性清洗(MW)通常是在系統運行設定時間或者設定個數的反洗周期后自動 啟動。維護性清洗和漂洗典型地需要不到30min的離線時間,而后,裝置重新投入運 行。 2-7 化學清洗 (CIP) 當污染物在膜組件上的堆積量導致流動阻力大到不可接受時,需要進行化學清洗。化學清洗工藝允許系統不用拆裝設備就進行清洗。 配備標準的PVDF(polyvinylidene fluoride)膜組件(通常是L20V)的MEMCOR?XP或CP裝置,可用次氯酸鈉溶液作為第一清洗方案,酸洗作為第二清洗方案。根據所用酸的不同,可在酸洗期間添加諸如EDTA(鰲合劑)等添加劑。 清洗周期通常采用第一清洗方案作為清洗的第一環節。在用第一方案清洗幾次 后,控制系統通常會用第二清洗方案轉入第二環節。而后,緊接著又立即轉入第一方案的清洗。這就是雙重化學清洗模式。 根據系統配置的設備和就地要求,CIP化學清洗程序可以手動或自動啟動。 典型的CIP化學清洗周期可按照下列步序進行: 第1步反洗 膜系統會先進行反洗,除去剩余固體,將清洗效率最大化。這個初步反洗周期在裝置放空時結束。 第2步清水注入和濃的清洗藥品添加 膜系統接著會注滿來自清洗箱的清洗水。使用的清洗水比較典型的是本系統的產品水,根據現場或者工藝要求,也可能使用其他水源,諸如市政供水或反滲透的產水等。 清洗水接著在系統內通過給水泵循環起來,同時向清洗水中加入清洗藥品。在清洗期間,根據膜類型和清洗階段的不同,可能需要加入一種或者多種藥品。清洗藥品的加入要持續到達到目標清洗濃度。 第3步清洗液循環 清洗溶液按照設定時間循環,以確保清洗液與系統的每一部分充分接觸,尤其是膜組件及產水側管道系統。 第4步清洗液浸泡 循環停止后,接下來讓裝置在清洗液中浸泡一段時間。 第5步重復循環和浸泡 在某些系統中,為了增強清洗效果,上述兩步可能需要重復數次(典型地4 次)。 第6步清洗廢液排放 用過的清洗液接下來先排放到清洗液貯存罐,而后送到廢液處理箱,進一步處理或排放。 第7步反洗漂洗 裝置接下來進行1至多次反洗,將系統內的清洗廢液漂洗掉。取決于就地要求和系統配置,反洗漂洗廢液可以因地制宜地直接送到反洗廢水處理系統或者清洗廢液處理系統。 第8步正洗漂洗 完成反洗漂洗后,裝置接下來進入正洗漂洗,時間預先設定。這時,產水排放管上的儀表(如果配備了)可以監測產水水質,確保系統重新投運之前,產水水質能滿足現場要求。 第9步返回制水 清洗結束后,裝置可以返回正常制水模式。取決于系統配備的設備和就地要求,返回制水模式可以設置成自動操作或者手動操作。如果系統要求手動重啟,則清洗結束后裝置進入停機模式。如果系統要求自動重啟,則清洗結束后裝置進入啟動和制水模式,恢復過濾。 當第二清洗方案作為雙重清洗模式的第一階段,進行完成后,清洗周期這時會重啟,進入第一清洗方案。 整個清洗周期大概需要進行兩個半小時。清洗期間,雙模式清洗典型地要進行兩次。 2-8 完整性測試 完整性測試主要用于檢測膜過濾皮層的完整性,確保產水水質始終如一,使 MEMCOR?XP或CP低壓膜過濾裝置的投運率達到最大化。 所有MEMCOR?XP和CP裝置都配置了內置的完整性測試程序,稱為壓力衰減試驗。該程序通常設置為當系統運行設定周期后自動啟動。壓力衰減試驗期間,系統需要保持離線大約5min,而后自動返回制水模式。 進行壓力衰減試驗時,常用空氣將膜組件內殘存的產水排放掉。系統的產水側則先用低壓空氣加壓到約100 kPa,而后關掉氣源,通過自動控制系統(如果系統配置了合適的儀器儀表的話)監測產水側氣壓衰減的速率。試驗過程中,系統的完整性和所測得的氣壓衰減速率是緊密相關的。 如果測量得到的壓力衰減速率比正常值大,可進一步用聲納試驗檢查任何不完整有缺陷的位置。聲納試驗是手動的,主要采用MEMCOR?聲納分析儀過濾并放大膜裝置內氣泡的聲音,從而幫助定位有問題的膜組件、泄漏的密封/閥門/管道及配件等。如果必要,每支被懷疑泄漏的膜組件均可用膜殼上下兩端配置的產水隔離閥單獨隔離。 完整性提高之后,系統可重新投入運行。含有損壞或泄漏元件的組件運行一段時間后,可在方便時卸下來檢查,并進一步測試。 MEMCOR?XP和CP裝置的壓力衰減試驗具有如下重要特征: ? 該試驗對LRV(對數去除值) > 4的顆粒去除率仍然非常敏感; ? 該試驗能評價實際的過濾效果,這對控制耐氯的病原體十分重要; ? 該試驗與進水水質(包括給水顆粒數量或濁度等)無關; ? 該試驗提供了一種比產水顆粒計數法更靈敏的完整性監測方法。該試驗與顆粒 計數法相結合,則可為系統提供冗余測試; ? 該試驗的高效率和準確性大大減少了運行人員的干預需要,使膜壽命達到最大 化。
注:此文為翻譯件,有任何疑問,請以英文原件為準。 MEMCOR? 是西門子水技術公司的注冊商標 ? 澳大利亞Memcor有限公司 2006
1. 超濾系統 1.1. 概述 本項目采用 SIEMENS 公司的Memcor? CP 壓力式超濾系統作為預處理,以去處水中的膠體、懸浮物及大分子有機物。CP 超濾系統是高度標準化、高度集成化的超濾膜過濾系統。由膜組件按矩陣形式拼成膜堆, 數個膜堆組成一個膜單元。膜單元再加上外圍配套設備就組成一套膜過濾成套設備,若干套模過濾成套設備加上共用的反洗、清洗、空氣擦洗、完整性檢測、自動化控制系統等就組成一個完整的膜過濾系統。下圖所示即為由4 套膜裝置組成的膜過濾系統。
本項目超濾系統主要由超濾進水提升泵、自清洗過濾器/疊片式過濾器、超濾單元、反洗單元、化學清洗單元及配套的藥劑配置投加單元組成。進水提升泵、自清洗過濾器/疊片式過濾器與超濾單元一一對應,反洗、清洗及藥劑配置投加單元為××套超濾單元共用。 1.1.1. 超濾單元 Memcor? CP 超濾單元由膜堆、氣動蝶閥、連接管道和儀表組成。通過閥門和管路,全自動完成產水、反洗、CEBW、CIP、完整性檢測各個過程。儀表主要有流量計、進出水壓力傳感器、液位開關、產水濁度儀、產水SDI 儀等。 1.1.1.1 L20V 膜組件 膜組件是超濾系統的核心部件,超濾系統的分離水及大顆粒雜質的作用就是通過膜組件實現的——原水進入膜組件,產水在正壓驅動下進入膜絲內腔被收集,懸浮物、膠體及大分子有機物等雜質將被截留在膜絲外表面。膜組件由膜芯及壓力容器(膜殼)構成。由膜絲組成的超濾膜芯裝在膜殼內,與其它廠商的產品不同的是,Memcor? CP 的超濾膜采用膜、殼分離的方式裝填,使用專用工具,膜芯可以很方便地從膜殼中拆出。換膜時只需更換膜芯即可,膜殼可以重復使用,降低換膜成本。 1、超濾膜元件參數表
1.1.1.2 膜列 每6支膜組件(膜芯+殼體)組成一排膜列,增加膜組件時以列為單位。利用 Memcor?專用工具可以很方便的將膜組件從膜列中拆除。而且膜的拆卸工具是電動的,無需消耗人力。
1.1.1.3 膜堆與膜裝置 每10~20 排膜列組構成1個膜堆,1 至3 個膜堆組成一個膜裝置。Memcor? CP 系列有4 種膜裝置,分別為CP120、CP180、CP240、CP360。CP360 的產水量可以達到20000T/d。 整個超濾膜堆的裝配全部在Memcor 工廠內完成,通過水壓試驗后出廠。 1.1.1.4 主要管道、閥門 每一套Memcor? CP 系列超濾單元的閥門組有12 臺氣動閥門,以及完善的管路系統,通過閥門和管路,全自動完成產水、反洗、CEBW、CIP、完整性檢測各個過程。
1.1.1.5 自動化控制系統 Memcor? CP 系列超濾單元采用PLC 控制。控制系統可與國際標準的通訊軟件兼容。 系統設計具有彈性,可以最大程度滿足客戶的需要,同時降低成本。 1.1.1.6 儀表系統 Memcor? CP 系列超濾單元裝配有流量計、進出水壓力傳感器、產品水濁度計、高低液位開關等在線監控儀表。其主要作用如下: 流量計:作為超濾提升泵的變頻依據,監測瞬時流量和累計流量。 壓力傳感器:監測運行過程中超濾膜透膜壓差的變化,也作為膜完整性檢測的監測手段。 產品水濁度儀:連續監測超濾出水濁度。 液位開關:監測反洗程序中排空和充水過程是否到位。 完善的儀表監測系統為Memcor? CP 系列超濾單元設備實現其獨特的運行方式和裝置的安全穩定生產提供了有力的保障。 2、清洗相關知識 1.1.2. 清洗單元 為了防止膜結垢和膜污染,在運行一段時間后,需要對超濾膜進行化學清洗以恢復其產水能力。Memcor? CP 超濾系統有兩種清洗模式——恢復性清洗與維護性清洗。恢復性清洗的耗時比較長,主要作用是在超濾膜污堵較嚴重時對膜進行徹底的清洗,每次清洗間的間隔時間比較長。維護性清洗的耗時較短,是一種日常進行的清洗。上述兩種化學清洗的運行方式如下:
本項目超濾系統配有完整化學清洗單元,當系統TMP(透膜壓差)達到工藝設定的上限或運行時間達到設定的清洗周期時,系統停止產水,進行在線化學清洗。整個清洗的過程可由PLC 控制自動完成。化學清洗啟動時,配藥系統將提前做好準備,各套超濾輪流進行清洗。 恢復性清洗(CIP) 當系統運行壓差持續明顯增加,并且通過反洗等手段恢復效果都不理想時,需要對超濾系統進行動恢復性清洗,清洗后透膜壓差將恢復到正常值。 維護性清洗(CEBW) 超濾運行中,當透膜壓差明顯上升或者累計運行時間達到設定值時,將啟動維護性清洗。維護性清洗的啟動透膜壓差閾值較CIP 低,設定的累計運行時間也比恢復性清洗周期短。維護性清洗(CEBW)的過程步驟與恢復性清洗一樣,但是其使用的清洗藥劑濃度較低,耗時較短。本項目清洗單元由清洗水泵和清洗溶液箱組成。根據累計運行時間和透膜壓差由PLC來判斷并啟動維護性清洗或恢復性清洗,無論維護清洗還是恢復性清洗過程都是全自動完成,無需人為干預。清洗系統設氣動蝶閥、溫度傳感器、液位計、流量計及加熱器等配套設備,清洗過程 包括清洗水箱灌水、配藥、循環混合藥液、加熱、藥液轉移到超濾膜堆、閉路循環、超濾膜堆排空、清洗管道排空、水箱排空等步驟。 1.1.3. 反洗單元 超濾系統進行過濾工作時,進水中的膠體、懸浮物及大分子有機物等雜質被截留在膜表面,隨著時間的推移,膜表面的雜質層厚度的增長加大了過流阻力,透膜壓差將隨之上升。當透膜壓差的上升達到一定程度時,就需要對膜絲進行反沖洗,防止污染物在膜絲上過度沉積,維持膜絲正常的產水能力。科學合理的設定膜的沖洗方式、頻率、強度,有助于維持膜通量,從而可以保證系統系統的正常運行。在實際操作中,可以通過對透膜壓差、累計工作時間、膜通量等參數的監控來判斷啟動反洗。所采用的Memcor? CP 超濾系統在反洗過程中利用空氣鼓動容器內的原水對膜絲進行氣水聯合擦洗,擦洗結束后由壓縮空氣驅動膜絲內的超濾產水由內向外反洗膜絲壁并最終將膜殼內的全部反洗水排出系統。Memcor? CP 的反洗過程中,反洗單元不使用已經到達產品水池的超濾產水,這與其他超濾系統不同,極大的降低了系統的自用水率。而也正是由于這一特點,CP 超濾系統的反洗單元不設置反洗水泵。、、 1.1.4. 超濾藥品配置投加單元 1.1.4.1 次氯酸鈉配藥輸送(投加)裝置 次氯酸鈉(NaClO)溶液在水處理行業中被廣泛應用于殺菌、滅藻,氧化有機物。本項目設置次氯酸鈉配藥輸送(投加)裝置有兩個作用:一,它為超濾清洗系統配藥并把藥液輸送至清洗溶液箱;二,它在原水中投加次氯酸鈉溶液。一般在市場上出售的次氯酸鈉,其有效氯濃度為8~12%。為達到殺菌目的,一般需在原水中加入1~3ppm 的有效氯。 次氯酸鈉配藥輸送(投加)裝置由溶液箱、計量泵及輸送泵組成。溶液箱設低位液位開關,保護加藥泵,并報警提醒運行人員及時配藥和倒換溶液箱。計量泵用于對原水投加藥劑,選用高品質的隔膜計量泵,耐腐蝕,無泄漏。計量泵的啟停與提升泵聯鎖,投加量可根據在線流量表輸出的4-20mA 信號自動調節,也可手動調節。次氯酸鈉加藥采用母管制。次氯酸鈉輸送泵采用氣動隔膜泵,用于化學清洗藥劑的輸送。氣動隔膜泵是一種以壓縮空氣為驅動介質的正位移泵,由于其具有外形輕巧,安裝簡便,且運行操作簡單等優點,目前被廣泛的應用于水處理行業的藥劑輸送過程。 1.1.4.2 鹽酸配藥輸送裝置 超濾系統主要利用鹽酸溶液對系統定期進行清洗以防止無機鹽在膜表面的沉積。 鹽酸配藥輸送裝置由溶液箱及輸送泵組成。輸送泵采用氣動隔膜泵。溶液箱設低液位報警提醒運行人員及時配藥,加藥量定量投加,由時間控制加藥量保證化學清洗液濃度。計量泵入口設Y 型過濾器,加藥管設止回閥和手動球閥。 1.1.4.3 檸檬酸配藥輸送裝置 檸檬酸配藥輸送裝置由溶液箱及輸送泵組成。輸送泵采用氣動隔膜泵。溶液箱設低液位報警提醒運行人員及時配藥,加藥量定量投加,由時間控制加藥量保證化學清洗液 濃度。計量泵入口設Y 型過濾器,加藥管設止回閥和手動球閥。 1.1.5. 維護性清洗(CEBW) 維護性清洗周期一般為4~7 天,采用的藥劑配方是次氯酸鈉或檸檬酸加鹽酸。為了確保維護性清洗的效果,通常進行清洗前,先對膜組件進行反洗,以去處膜表面的松散污染物,使藥劑真正作用于反洗難以去除的“頑固污染物” ,從而最大限度提高化學清洗效率。進行清洗時,首先需要準備清洗的相關條件。清洗程序被觸發啟動后,系統將向化學 清洗水箱注入反滲透產品水,到達設定液位后關閉水池進水閥門。隨后啟動加藥泵和化學清洗泵的內部循環系統(如果是水溫低時還需要啟動加熱器)。通過循環和加熱使清洗水箱中的藥劑濃度和水溫(通過溫度傳感器監測)達到要求。至此,準備工作基本完成,在反洗過程的第三步后可開始進行維護性清洗。 維護性清洗開始時,首先啟動化學清洗泵,開啟化學清洗進水閥,將清洗水池內的藥液送入超濾單元內,開啟清洗液、透過液回流閥,回流到清洗水池,上位機自動監測化學清洗池液位,當液位不再下降時表示超濾設備內部已經充滿藥液,此時切換閥門,開始清洗泵和超濾設備內部循環,不再經過清洗水池循環。 維護性清洗結束后,啟動超濾進水提升泵,打開進水閥門,打開產品水排放口和上排水口,重新開始進入產水過程。 1.1.6. 恢復性清洗(CIP) 基本過程同維護性清洗,只是清洗過程的時間要長一些,而且藥劑濃度高于維護性清洗藥劑。恢復性清洗頻率約為每月1 次。 1.1.7. 膜系統完整性檢測(PDT,Pressure Decay Test) PDT 的頻率是每天一次,當反洗進行完第四步時,在產品水側通入120kPa 的壓縮空氣,推動膜絲內側的水到膜絲外側,在膜絲內部充滿壓縮空氣,當產品水側壓力達到120kPa 壓力時,關閉進氣閥,保持壓力,上位機會根據在規定時間內壓力的衰減速率計算出完整性檢測的結果。如果完整性檢測達到要求則直接進入產水準備,如果達不到要求可以利用Memcor?專用工具進行聲波測試,找出破損部位。如果是膜組件破損,則可將破損元件暫時隔離,然后重新恢復產水。每個膜組件的上部有一個隔離旋鈕,需要隔離時只需轉動該鈕。破損膜組件將暫時不參與產水,以避免原水從破損部位混合入產水。可在系統檢修時對破損膜組件進行修補。 聲明:本文源自盛鑫華業環保設備整合整理,如本站文章和轉稿涉及版權等問題,請作者在及時聯系本站,我們會盡快處理。 |
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